真空鍍膜材料

（鍍制：復(fù)合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質(zhì)膜，光學(xué)膜，激光裝置濾光片，保護(hù)膜，透明導(dǎo)電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）

高品質(zhì)真空鍍膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,

 一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3

  等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物：氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，

  氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，

  鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，

  高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，

  金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，

  銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。

  備注：CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過SGS認(rèn)證，純度高，濺點(diǎn)少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強(qiáng)，抗腐蝕性強(qiáng)，顏色均勻   等優(yōu)點(diǎn)。

高純材料

（產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和電子行業(yè)的基礎(chǔ)材料，光學(xué)，航天，原子能工業(yè)，電子，光電子，太陽(yáng)能電池，裝飾，合金添加劑等各類科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域）

1.高純金屬(純度：3N-8N,規(guī)格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

高純鋁,高純銅，高純鉻，高純鈷，高純金，高純銀，高純鉑，高純鉿，高純鎢，高純鉬，

高純硅，高純鍺，高純錳，高純鎂，高純鈮，高純錫，高純鋅，高純釩，高純鐵，高純鈦

，高純鋯，高純碲，高純鎳，高純鉭，高純鎵，高純銦，高純鈀，高純錸，高純鑭,高純鐠,

高純鈰，高純釓,高純銥，高純銠，高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩，高純銪，高純鈥，

高純鋱等高純金屬材料。

2.高純氧化物(純度：3N-6N,規(guī)格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

     一氧化硅，SiO,二氧化硅，SiO2，二氧化鉿，HfO2,二氧化鋯，ZrO2,一氧化鈦,TiO，二氧化鈦，

TiO2,三氧化二鈦，Ti2O3,五氧化三鈦，Ti3O5，五氧化二鉭，Ta2O5，五氧化二鈮，Nb2O5，

三氧化二鋁，Al2O3,三氧化二鈧，Sc2O3，三氧化二銦，In2O3,二氧化鈰，CeO2，氧化鎂，MgO,

三氧化鎢，WO3，氧化銅,CuO,氧化鐵,Fe2O3,氧化釤，Sm2O3，氧化釹，Nd2O3，氧化鑭，La2O3，

氧化釔，Y2O3，氧化鐿，Yb2O3，氧化釓，Gd2O3,氧化镥，Lu2O3,氧化鋱，Tb2O3，氧化鈥，Ho2O3，

氧化銪，Eu2O3，氧化銩，Tm2O3,氧化鉺，Er2O3，氧化鉍，Bi2O3，氧化鐠，Pr6O11，氧化銻，Sb2O3，氧化釩，V2O5，氧化鎳，NiO,氧化鋅，ZnO,氧化鉻，Cr2O3，氧化鍶，SrO等高純氧化物

3.高純氟化物(純度：3N-6N,規(guī)格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

    氟化鏑DyF3，氟化釹NdF3，氟化鉀KF，氟化鍶SrF2，氟化鈉NaF，氟化鋇BaF2，氟化鉛PbF2，氟化鋁AlF3，氟化鈰CeF4，氟化鎂MgF2，氟化釤SmF3，氟化釹F3Nd，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化軋，氟化镥LuF3，氟化鋱TbF3，氟化銩TmF3，氟化鉺，氟化鐠等高純氟化物

4.其他化合物（(純度：3N-6N,規(guī)格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

    碳化鋯，ZrC,碳化鉿，HfC,碳化硅，SiC,碳化硼，B4C碳化鎢WC，碳化鈦,TiC,等碳化物。

硫化銅，CuS,硫化鎘，GdS,硫化鋅，ZnS,硫化鉬，MoS,硫化錫SnS,等硫化物.氮化鈦，TiN,氮化鋁，AlN,氮化硅，Si3N4，氮化硼BC,等氮化物.二硼化鋯，ZrB2二硼化鈦，TiB2，二硼化鉿，HfB2，氯氧化鋯，氯氧化鉿，四氯化鋯，四氯化鉿，硫酸氧鈦，鈦酸鋇，鈦酸鍶，鈦酸鑭，鈦酸鐠，二硅化鉬，硒化鋅，AZO，IGZO，ITO等化合物.

備注：CNM高純材料采用化學(xué)精煉法，電解精煉法，電子書熔煉，區(qū)間熔煉，萃取精煉法，控制晶粒的生長(zhǎng)形態(tài)的偏析法提純工藝，濕法提純，化學(xué)提純。材料：純度高，性能穩(wěn)定，延展性好，耐腐蝕性能優(yōu)良，放射性元素含量低，強(qiáng)度高，具有良好的加工性能。